?高分辨率對準和曝光系統，小型、桌面式?經典設計，高精度、高穩定性、操作簡單
?擴展光刻膠和襯底的材料范圍，打破傳統光刻工藝的限制
?一致的、高質量的曝光結果，零培訓、零基礎即可操作
?無需超凈間、任何地點都可以光刻；低功耗、可選電池供電
?搭建即可運行，牢固的機械結構和光學器件，無需額外維護和校準
?應用領域: 半導體、微流控、生物芯片、光學器件，及更多應用領域
高精度光刻--實現如此簡單
使用簡潔的設計和簡約的方法，α-line重新定義了的手動對準系統的性能期望和價格范圍。利用CygnusPhotonic新的π-Photon 172nm光源，α-line簡化了傳統的高分辨率光刻，并引入了現有對準系統不易實現的新處理能力。
α-line是一款通用型手動對準和曝光系統，使準直機(aligner)的應用領域不再局限于微電子和傳統光刻膠。采用廠家新技術，可以直接在各種有機物例如PMMA、ABS或其他有機材料上進行光刻，使α-line成為MEMS、微流控、生物工程和生命科學等研究領域的理想工具。
樣品/襯底
最大尺寸: 最小尺寸: 最大厚度(掩膜版+樣品)
50 mm × 50 mm (2” × 2”)
10 mm × 10 mm (0.4” × 0.4”)
8 mm
掩膜版尺寸
75 mm × 75 mm (3” × 3”) 定制尺寸 (可選)
樣品對準 行程
X,Y:
Theta:
分辨率
X, Y:
Theta:±6 mm±10 ° (coarse), ±3 ° (Fine)<1.5 μm (<0.5 μm optional) 2 ×10-4 °
功率要求：
電壓: 功耗:
12 VDC, 110/220 V AC
(12 VDC adapter included)
<20 W
Utilities
Vacuum (optional): Compressed air (optional):
<-0.2 bar
>1.1 bar
曝光模式:
軟接觸, 硬接觸
尺寸
寬/深/高:
205/230/400 mm
重量:
<12 kg (26.5 lb)曝光波長(需要π-Photon, 單獨出售):
172 nm /222 nm /308 nm
