?新一代紫外波長：172 nm
?光源技術：平面微腔陣列發光
?輸出強度: >10mW/cm2
?光刻分辨率：<0.5μm，典型可達0.35μm
?無需光刻膠，有機聚合物直接曝光
?無需超凈間，無需預熱，無需冷卻，無需復雜培訓，幾乎"零"維護
?杰出的光束均勻度：可用光圈的3％
?壽命長：3000小時曝光，曝光高達60000次(3分鐘/次), 使用可達10年
?綠色技術：無汞等有毒易燃氣體和物質； 高電-光轉換率，節能省電；
?小巧，方便，可放入手套箱
高功率平面真空172 nm 紫外線 —在光處理中更多應用
采用特有的172nm波長，光源技術兼具高功率，以及超乎尋常的均勻性和多功能性，高效能且緊湊的模塊化設計。這些革命性的實現都由π2-CYGNI系列真空紫外光處理系統開始。
172納米全新光處理體系
傳統172nm光源的低輸出功率阻礙了該波長在研究和生產中的廣泛應用。π2-CYGNI 克服了這一障礙，并展示了172 nm的真正實力-全新化學驅動，反應方式和處理技術。
全新功率驅動
紫外線弧光燈能提供高平均功率， 準分子紫外線源提供高光子通量。π2-CYGNI 提供高平均功率和高光子通量- 無需有源或外部冷卻。 把高功率和高光子通量這種獨特組合，封裝在手掌大的盒子中，實現其他光源不易完成的大面積反應和處理。
全新發光技術
每套 π2-CYGNI系統的核心是它超薄的(< 4mm)平面微腔光源。與傳統的弧光放電燈相比，這種廣域照射產生了卓越的均勻性，同時又消除了對復雜聚光、準直和均化等光學器件的要求，使設備更加小巧，在一般實驗室的適應成為可能。
全新光刻工藝--無需昂貴的光刻膠、無需顯影
π2-CYGNI消除了對特定光刻膠的需求，由于172nm光具有高能量（每光子7 . 2eV），現在可以將有機聚合物用作光刻膠！由于有機膜質量減少，在曝光期間產生圖像，因此消除了對單獨顯影步驟的需要，也避免光刻膠經顯影后不易剝離(liftofff)的難題。
